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產(chǎn)品型號(hào): |
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產(chǎn)品名稱: |
ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 |
產(chǎn)品報(bào)價(jià): |
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產(chǎn)品特點(diǎn): |
主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。由于磁控濺射能夠地控制參數(shù)和提高膜層附著力、密度及均勻性,已成為沉積薄膜的重要方法,射頻磁控濺射具有沉積速率高,可以濺射材料,包括導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料等特點(diǎn)。由于在低氣壓下濺射,因此膜層致密、針孔少、度高。可開設(shè)的實(shí)驗(yàn) |
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ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 的詳細(xì)資料: |
ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 | | 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。由于磁控濺射能夠地控制參數(shù)和提高膜層附著力、密度及均勻性,已成為沉積薄膜的重要方法,射頻磁控濺射具有沉積速率高,可以濺射材料,包括導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料等特點(diǎn)。由于在低氣壓下濺射,因此膜層致密、針孔少、度高。 可開設(shè)的實(shí)驗(yàn) 1、掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理; 2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過(guò)程及使用范圍; 3、磁控濺射法制備金屬膜、半導(dǎo)體膜、化合物膜、介質(zhì)膜等薄膜。 主要參數(shù) 1、濺射鍍膜室:由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成;尺寸:Φ220×H230mm3; 2、濺射鍍膜室本底真空:≤1Pa;濺射腔限真空:6×10-1Pa; 3、濺射靶:Φ50mm,濺射靶臺(tái)和濺射靶可調(diào)距離:20~60mm; 4、基片加熱溫度可控范圍:室溫~300℃; 5、射頻源功率:500W,13.56MHz; 6、氣路系統(tǒng):由兩路轉(zhuǎn)子流量計(jì)控制(可選配流量計(jì)); 7、真空系統(tǒng):2XZ-4型旋片真空泵,抽氣速率:4L/S,單相220V交流電源供電; 8、對(duì)過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警,并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施; 9、供電電源:AC220V,50Hz,整機(jī)功率2KW。 |  | 北京中慧天誠(chéng)有限公司 :www.zhonghuitc.com www.centrwin.com www.59488880.com http://zhtc2010.cn.alibaba.com |
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 北京中慧天誠(chéng)有限公司 |
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